一、本文采用有無離子源輔助電子束蒸發兩種工藝制備了Ta2O5薄膜，研究了制備工藝對Ta2O5薄膜性能的影響。
二、使用PMMA電子束抗蝕劑，在該系統上獲得0.1微米的線分辨率。
三、為滿足納米級電子束曝光系統的要求，設計了高速圖形發生器。
四、在圓形硅基底上采用電子束加熱蒸發制備了二氧化鈦薄膜。
五、研究了角錐喇叭天線的電子束焊接工藝,并與傳統的氬弧焊成形工藝進行了對比.
六、評述了平板CRT的基本問題，指出矩陣式驅動和電子束偏轉系統結合的平板CRT可能是很有前途的一種方案。
七、因此目前電子束光刻設備主要的用途是用于刻制掩膜板，許多人甚至認為電子束光刻技術的產出量永遠也無法滿足芯片量產的需求。
八、與所有降B調，電子束，C和低音譜號文書，爵士隊用播放沿系列是最終的學習所有爵士樂手工具。
九、利用柱坐標系下的二維PIC程序對金屬靶背向超熱電子束的運動特性進行了模擬，研究了超熱電子的回流機制。
十、高能量電子束也能用來激發高能量X射線峰的發射.
十一、結果：電子束CT使用電子束的磁偏轉代替球管機械運動，既加快掃描速度，又減少機械磨損，有很高的時間分辨率。
十二、空心鋁球的焊接更有特殊性，采用真空電子束焊接比激光焊接更為有利。
十三、研究了電子束曝光機圖形數據格式轉換軟件的分割、壓縮算法，針對傳統的圖形數據分割、壓縮算法存在的主要缺點，提出了新的分割算法和壓縮算法，并對壓縮算法進行了詳細的論述和研究。
十四、為實現電子束曝光機掃描場的線性畸變校正，設計了圖形發生器的成像系統，該系統包括硬件和軟件兩部分。
十五、Ta2O5薄膜采用傳統的電子束蒸發方法沉積在BK7基底上?！緃ttp://，加速后的電子經過磁透鏡聚焦而形成能量密度極高的電子束來轟擊工件表面。
二十一、本文介紹了新型電子束熔煉爐技術參數、結構、性能及其特點。
二十二、然后我放了兩個感光片,我可以檢測到光束所以,當我觀察時,電子束以每秒80次的速度來來回回了。
二十三、結果表明，結果表明，熔煉工藝參數如熔化速度、熔煉功率、電子束掃描方式和掃描頻率都會對熔池表面溫度產生劇烈影響。
二十四、此外，用此方法提取的電子散射參數被成功地用于相同實驗條件下的電子束臨近效應校正。
二十五、比如一些3D印刷機在印刷臺鋪撒金屬粉末之后，采用露光模板以外的激光或電子束方式進行熱凝處理來產生樣模。
二十六、殘留表面電位會在后續觀測中引入誤差，影響臨界尺度掃描電鏡法的測量精度，并在電子束光刻中造成位置誤差。
二十七、這個獨立的的氮化硅結構從力學上看也很牢固，并且能禁受住TEM中300keV電子束的照射。
二十八、論述了光柵掃描的原理及特點；介紹了圖形發生器的作用及電子束在控制系統作用下在基片上描繪圖形的過程。
二十九、為了實現高清晰度顯示，大量采用非旋轉對稱的系統以減小電子束上屏的束點尺寸。
三十、衍射光學元件有很多制作方法，比較成熟的有二元光學元件加工方法和激光或電子束直寫技術加工方法。
